| |
Технические характеристики:
Plasma etcher TETRA-100-LF
Шкаф распределительного устройства:
Ш 600 мм, В 2.200 мм, Г 800 мм
Камера:
Ш 400 мм, В 400 мм, Г 625 мм
Объем камеры:
~ 100 литров
Подвод газа:
2 регулятора расхода газа с игольчатыми клапанами
Генератор:
40 кГц / 0 – 2.500 Вт
(опционально: 13,56 МГц или 2,45 ГГц)
Вакуумный насос:
Leybold, тип D40B (40 м³/ч)
Комплектация:
До 10 ярусов(до 10 подложек для обрабатываемых образцов)
(опционально: вращающийся барабан)
Управление:
автоматическое, время устанавливается таймером
ОПЦИИ / ПРИНАДЛЕЖНОСТИ ДЛЯ ПЛАЗМЕННЫХ УСТАНОВОК
|
|
„Plasma system TETRA-100-LF“ применяется для очистки, активации и травления
Шестиярусный блок загрузки камеры и вращающийся барабан для систем TETRA plasma system |
