| |
Технические характеристики:
Plasma etcher NANO
Шкаф распределительного устройства:
Ш 580мм, В 650мм, Г 600мм
Камера:
Ø 267мм, Г 420мм
Объем камеры:
~ 24 литра
Подвод газа:
2 регулятора расхода газа с игольчатыми клапанами
Генератор:
40 кГц / 300 Вт, бесступенчатый
(Опционально: 13,56 МГц или 2,45 ГГц)
Вакуумный насос:
Leybold, тип D8B (8 м³/ч)
Комплектация:
Подложка для обрабатываемых образцов – 1 шт.
Управление:
полуавтоматическое, время устанавливается таймером
ОПЦИИ / ПРИНАДЛЕЖНОСТИ ДЛЯ ПЛАЗМЕННЫХ УСТАНОВОК
|
|
Малогабаритная установка „plasma system NANO“ с полуавтоматическим управлением: очистка, активация, травление, нанесение покрытий
|
