| |
Процесс травления поверхности производится с помощью активированного газа. Материал поверхности в месте травления переходит в газовую фазу и отсасывается насосом. Площадь поверхности и коэффициент смачиваемости увеличиваются.
Применение plasma etching:
- Например, структурирование кремния
- Надежное закрепление лаковых и клеящих покрытий на устойчивые к
высоким температурам пластмассы – ПТФЭ, ПФА и ФЕП
|
