| |
Технические
характеристики:
Plasma etcher TETRA-30-LF-PC
Шкаф распределительного
устройства:
Ш 600 mm, В 2.200 mm, Г 850 mm
Камера:
Ш 305 mm, В 300 mm, Г 370 mm
(опционально: D 625 mm)
Объем камеры:
~ 34 литра
Подвод газа:
3 канала подвода газа с
электронной регулировкой (MFC)
Генератор:
40кГц/0-1000 Вт
(опционально: 13.56 МГц или 2.45
ГГц)
Комплектация:
до 6 ярусов(до 6 подложек для
обрабатываемых образцов)
(опционально: вращающийся
барабан)
Управление:
ПК управление(Windows)
ОПЦИИ /
ПРИНАДЛЕЖНОСТИ ДЛЯ
ПЛАЗМЕННЫХ
УСТАНОВОК
|
|
Промышленная установка (plasma system)
„TETRA-30-LF-РС“ с компьютерным
управлением для: очистки,
активации, травления,
нанесения покрытий |