| |
Dane techniczne:
Plasma etcher TETRA-100-LF
Szafa rozdzielcza:
W 600 mm, H 2.200 mm, D 800 mm
Komora:
W 400 mm, D 625 mm, H 625 mm
Objetosc komory:
approx. 100 litres
Doprowadzenie gazu:
2 gas channels through needle valve
Generator:
40kHz/0-2500 W
(optional: 13.56 MHz or 2.45 GHz)
Pompa prózniowa:
Leybold, Type D40B (40 m³/h)
Uchwyt obrabianych elementów:
up to 10 trays
(optional: rotary drum)
Sterowanie:
PC control (Windows)
Opcje/osprzet
|
|
Plasma system TETRA-100-LF do produkcji: czyszczenie, aktywowanie, wytrawianie
Szesciokrotne nosniki produktów i bebny obrotowe do systemów TETRA |
