home
Tecnika plazmowa
Słownictwo
FAQ
Urządzenia Plazmowe
Doradztwo/Serwis
Łącza/
przedstawicielstwa
Referencje
Targi
Kontakt
Dojazd
O nas
Pliki do pobrania
SŁOWNICTWO
[ UZYWANE W FIZYCE PLAZMY ]
Plazma niskociśnieniowa
W fizyce plazmą nazywany jest zjonizowany gaz. Rozróżniamy plazmy wysoko- i niskociśnieniowe. Plazmy wysokociśnieniowe czy też wysokotemperaturowe znane na przykład ze zgrzewania plazmowego osiągają temperatury rzędu kilku tysięcy stopni. Do delikatnego czyszczenia powierzchni elementów wykorzystywana jest plazma niskociśnieniowa. Umożliwia ona uzyskanie temperatury obróbki poniżej 100 °C. Czyszczenie powierzchni niskociśnieniowych urządzeniach plazmowych odbywa się przy podciśnieniu w zakresie od 0,1 do 2 mbar. Komora próżniowa odpowiedniego urządzenia jest napełniana gazem procesowym. Używane są gazy szlachetne, gazy zawierające fluor a w szczególności tlen. Pole elektryczne w postaci napięć wysokiej częstotliwości w zakresach kHz, MHz (częstotliwość radiowa) lub GHz (mikrofale) wprowadza energię do systemu i przyspiesza wolne nośniki ładunków, które zderzając się z cząsteczkami gazu powodują jego jonizację. Jako gaz procesowy stosowany jest najczęściej tlen (procesy oksydacyjne). W wyniku takiej stymulacji powstają m.in. rodniki O2, które są w stanie rozerwać łańcuchy węglowodorowe, utleniając je do dwutlenku węgla i pary wodnej. Na tej właśnie reakcji chemicznej oparte jest czyszczące działanie plazmy. Zanieczyszczenia organiczne podlegają przemianie na lotne (gazowe) produkty reakcji. Oprócz tlenu jako gaz procesowy stosowany jest głównie argon, hel, wodór, azot i tetrafluorometan.
home
|
Tecnika plazmowa
|
Słownictwo
|
FAQ
|
Urządzenia Plazmowe
|
Leasing maszyn
|
Obróbka uslugowa
|
Doradztwo/Serwis
|
Przedstawicielstwa
|
Referencje
|
Pliki do pobrania
|
Targi
|
Kontakt
|
Dojazd
|
O nas
|
Stopka redakcyjna
© 2009 Diener electronic GmbH + Co. KG
Webdesign Heindl Internet AG
