UZYWANE W FIZYCE PLAZMY :: RIE :: diener electronic

	SŁOWNICTWO
	[ UZYWANE W FIZYCE PLAZMY ]

	RIE Reaktywne wytrawianie jonowe to wszechstronna technika wytrawiania na sucho, którą można stosować do niemal wszystkich materiałów, wykorzystywanych w elektronice i optoelektronice. Naładowane elektrycznie cząstki plazmy uderzają w powierzchnię obrabianego elementu, zdejmując z niej, powtarzalnie i anizotropowo kolejne warstwy. Reaktywne wytrawianie jonowe jest stosowane w szczególności do anizotropowej strukturyzacji krzemu, dielektryków organicznych i nieorganicznych, metalowych materiałów barierowych i polimerów do zastosowań w elektronice i optoelektronice. (SH) Do zdejmowania warstw krzemu lub powłok zawierających krzem są wykorzystywane gównie gazy wytrawiające na bazie fluoru, np. CF4 i SF6. Do wytrawiania molekuł organicznych lub czyszczenia powłok nieorganicznych z zanieczyszczeń organicznych stosowana jest plazma tlenowa lub mieszanki gazowe, złożone z O2 i CF4. Powłoki metalowe są wytrawiane głównie metodami fizycznymi (przez mechaniczne wybijanie atomów/molekuł), np. za pomocą plazmy argonowej.

	home \| Tecnika plazmowa \| Słownictwo \| FAQ \| Urządzenia Plazmowe \| Leasing maszyn \| Obróbka uslugowa \| Doradztwo/Serwis \| Przedstawicielstwa\| Referencje \| Pliki do pobrania \| Targi \| Kontakt \| Dojazd \| O nas \| Stopka redakcyjna

	© 2009 Diener electronic GmbH + Co. KG Webdesign Heindl Internet AG

SŁOWNICTWO