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Technische Daten:
Schaltschrank:
B 600 mm, H 1700 mm, T 650 mm
Kammer:
B 160 mm, H 160 mm, T 325 mm
Kammertür:
Aluminium, Schauglas mit manuellem Shutter
Vakuum System:
2-stufige Drehschieber-Vakuumpumpe (2,5 m3/h min.), z.B. TRIVAC D 2,5 E (oerlikon)
oder ölfreie Scroll Vakuumpumpe (5 m3/h min.), z.B. SCROLLVAC SC 5 D (oerlikon),
mit Turbomolekularpumpe 60 l/s N2 (bei 10-5 mbar) und Bypass-Pumpsystem
Substrataufnahme:
Durchmesser 140 mm
Substratdurchmesser, max.:
130 mm (max. 60 mm für homogene Beschichtung)
Beschichtbare Fläche:
ca. 130 cm2
Bias-Spannungsquelle:
DC oder einpol. gepulst
Leistung max. 300 W
Spannung max. 600 V DC
Sputterquelle:
1 Stück, 2" zirkular, indirekt wassergekühltes Target,
Leistung max. 470 W (23 W/cm2) LF (40 kHz)
Targetmaterial:
Metalle wie Ti, Al, Mg, Cu, Cr,
Ag, Au, Pt oder Edelstahl
Vorbehandlung:
Subtrathalter schaltbar als Elektrode
zur Plasmabehandlung (Reinigen, Aktivieren)
Anschlusswerte:
Spannungsversorgung 400 V / 16 A (50/60 Hz)
Druckluft 6 bar
Kühlwasser
Grundfläche/Raumbedarf:
B x T x H: 600 mm x 800 mm x 1700 mm (19" Standgehäuse)
Prozesse:
(reaktives) LF-Sputtering, Substrat-Vorbehandlung (LF-Plasma)
Optionen/Zubehör
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TETRA-8-LF-PC Sputter mit PC-Steuerung. Konzipiert für
die Produktion: Reinigung, Aktivierung, Ätzung
PREIS: auf Anfrage |
