diener electronic  |  Plasma-Surface-Technology Plasmaanlagen, Oberflächenbehandlung, Oberflächentechnologie, Plasma
 
german english spanish english turkish italian french
russian polish czech chinese japanese taiwanese korean
Home
  Plasmatechnik
  Lexikon
  FAQ
  Plasmaanlagen
  Niederdruck-Plasma
    Zepto - Low-Cost
    Atto - Low-Cost
    Femto
    Femto UHP
    Femto PCCE
    Pico
    Pico UHP
    Nano
    Nano UHP
    Tetra-8-LF
    Tetra-15-LF-PC
    Tetra-30-LF
    Tetra-30-LF-PC
    Tetra-30-ETC
  EASY-TO-CLEAN
    Tetra-100-LF
    Tetra-100-LF-PC
    Tetra-150-LF
    Tetra-150-LF-PC
    Sonderanlagen
    Aufbauprinzip
    Aufbauvariationen
    Steuerungen
    Optionen/Zubehör
    Elektronenmikroskopie
   Pirani-Vakuum-
  Messgerät
  Atmosphärisches Plasma
  Generatoren
  Plasmaindikator-
Etiketten
  Mikrowellen-
einkopplung
  Plasma-
Reinigungsquelle
  Dienstleistungen
  Vertretungen
  Referenzen
  Messen
  Kontakt
  Anfahrt
  Jobs & Chancen
  Wir über uns
  Infocenter/Presse
   
 

PLASMAANLAGEN - STANDARDANLAGEN

 

[ FEMTO UHP]

   
  Die 1,9-Liter-Laboranlage FEMTO UHP mit halbautomatischer Steuerung kommt vorwiegend in folgenden Bereichen zum Einsatz:
  • Kleinserienfertigung
  • Analytik (REM, TEM)
  • Medizintechnik
  • Forschungs- und Entwicklungsabteilungen
  • Halbleitertechnik
  • Kunststofftechnik


UHP steht für Ultra High Purity. Diese Bezeichnung gilt für die Glasrezipienten unserer Plasmaanlagen, diese können je nach Kundenwunsch aus Borosilikatglas oder Quartzglas sein. Die Option UHP ist nur für folgende Anlagen erhältlich: Femto, Pico und Nano.

Eingesetzt werden Glaskammern in Mikrowellenanlagen und/oder bei Anwendungen, bei denen eine ultrareine Oberfläche erforderlich ist. Normale Edelstahl- oder Aluminiumkammern können, wie alle Metalle in einer Plasmaanlage, also auch das Behandlungsgut, in geringsten Mengen sputtern. Für die meisten Prozesse ist das nicht von Bedeutung und absolut vernachlässigbar. Die Aluminiumbauteile aus der UHP-Anlage sind mit AL2O3 beschichtet.


  Prospekt FEMTO (PDF 1007 KB)
 
Da die Anlagen keinen Edelstahl - Rezipienten besitzt, ist sie für Anwendungen geeignet, bei denen Spuren von Chrom, Nickel und Eisen störend sind.


Alle Plasmasysteme können in den verschiedensten Variationen kombiniert werden. Die folgende Übersicht soll zu einem Überblick über die gängigsten Anlagen verhelfen.
   
 

Technische Daten:
Plasma System Femto UHP

Schaltschrank:
B 345 mm, H 220 mm, T 420 mm
Kammer:
Ø 95 mm, L 270 mm, Öffnung Ø 90 mm
Kammervolumen:
ca. 1,9 Liter
Werkstoffe:
Quarz oder Borosilikatglas Vorder-u. Rückwand der Kammer: Aluminium
Gaszuführung:
1 Gaskanal über Nadelventil
Generator:
40kHz/100W, stufenlos
Vakuumpumpe:
Leybold, Typ S1,5 (1,5m³/h)
Teile-Aufnahme:

1 St. Warenträger
Steuerung:
manuell, Prozeßzeit über Timer

Optionen / Zubehör



 
Plasmaanlage FEMTO UHP für Prozessentwicklung, Reinigung, Aktivierung, Ätzung in Kleinserie - Plasmasysteme

Kleinanlage FEMTO UHP (Version 8) : Prozessentwicklung, Reinigung,
Aktivierung, Ätzung in Kleinserie

PREIS: auf Anfrage


Technische Daten:
Plasma System Femto UHP
(mit Scharniertür)

Schaltschrank:
B 560 mm, H 310 mm, T 600 mm
Kammer:
Ø 95 mm, L 270 mm, Öffnung Ø 90 mm
Werkstoffe:
Quarz oder Borosilikatglas Vorder-u. Rückwand der Kammer: Aluminium
Kammervolumen:
ca. 1,9 Liter
Gaszuführung:
1 Gaskanal über Nadelventil
Generator:
40kHz/100W, stufenlos
Vakuumpumpe:
Leybold, Typ S1,5 (1,5m³/h)
Teile-Aufnahme:

1 St. Warenträger
Steuerung:
manuell, Prozeßzeit über Timer

Optionen / Zubehör



 
Plasmaanlage FEMTO UHP(mit Scharniertür) für Prozessentwicklung, Reinigung, Aktivierung, Ätzung in Kleinserie - Plasmasysteme

Kleinanlage FEMTO UHP (Version 9) : Prozessentwicklung, Reinigung, Aktivierung, Ätzung in Kleinserie

PREIS: auf Anfrage
 
 

Technische Daten:
Plasma System Femto UHP



Schaltschrank:
B 562 mm, H 211 mm, T 420 mm
Kammer:
Ø 95 mm, L 270 mm, Öffnung Ø 90 mm
Werkstoffe:
Quarz oder Borosilikatglas Vorder-u. Rückwand der Kammer: Aluminium
Kammervolumen:
ca. 1,9 Liter
Gaszuführung:
2 Gaskanäle über Nadelventile
Generator:
40 kHz/100W, stufenlos regelbar
Vakuumpumpe:
Leybold, Typ S1,5 (1,5m³/h)
Teile-Aufnahme:
1 St. Warenträger
Steuerung:
manuell, Prozeßzeit über Timer
Druckmessgerät:
Pirani

Optionen / Zubehör

Plasmaanlage FEMTO LF UHP für Prozessentwicklung, Reinigung, Aktivierung, Ätzung in Kleinserie - Plasmasysteme

Kleinanlage FEMTO UHP (Version 10) : Prozessentwicklung, Reinigung, Aktivierung,
Ätzung in Kleinserie

PREIS: auf Anfrage
 


 

Technische Daten:
Plasma System Femto-PC UHP



Schaltschrank:
B 500 mm, H 460 mm, T 550 mm
Kammer:
Ø 95 mm, L 270 mm, Öffnung Ø 90 mm
Werkstoffe:
Quarz oder Borosilikatglas Vorder-u. Rückwand der Kammer: Aluminium
Kammervolumen:
ca. 1,9 Liter
Gaszuführung:
3 Gaskanäle über je einen MFC
Generator:
40 kHz/0-100 W
(Optional: 13,56 MHz o. 2,45 GHz)
Vakuumpumpe:
Leybold, Typ S1,5 (1,5m³/h)
Teile-Aufnahme:
1 St. Warenträger
Steuerung:
PC-Steuerung unter Windows
(siehe unsere Seiten über PC-Steuerung)

Optionen / Zubehör

Plasmaanlage FEMTO PC UHP für Prozessentwicklung, Reinigung, Aktivierung, Ätzung in Kleinserie - Plasmasysteme
Kleinanlage FEMTO-PC UHP (Version 11) : Prozessentwicklung, Reinigung, Aktivierung, Ätzung in Kleinserie

PREIS: auf Anfrage
   
   

Technische Daten:
Plasma System Femto UHP



Schaltschrank:
B 320 mm, H 500 mm, T 420 mm
Kammer:
Ø 95 mm, L 270 mm, Öffnung Ø 90 mm
Werkstoffe:
Quarz oder Borosilikatglas Vorder-u. Rückwand der Kammer: Aluminium
Kammervolumen:
ca. 1,9 Liter
Gaszuführung:
2 Gaskanäle über Nadelventile
Generator:
40 kHz/100W, stufenlos regelbar
Vakuumpumpe:
Leybold, Typ S1,5 (1,5m³/h)
Teile-Aufnahme:
1 St. Warenträger
Steuerung:
manuell, Prozeßzeit über Timer
oder Automatisch
Druckmessgerät:
Pirani

Optionen / Zubehör

Plasmaanlage FEMTO UHP vertikal für Prozessentwicklung, Reinigung, Aktivierung, Ätzung in Kleinserie - Plasmasysteme
Kleinanlage FEMTO UHP (Version 12) : Prozessentwicklung, Reinigung, Aktivierung, Ätzung in Kleinserie

PREIS: auf Anfrage

Die genannten Preise sind unverbindlich
Bitte setzen Sie sich wegen technischer Beratung für diese Anlagen mit uns in Verbindung.

  Home | Plasmatechnik | Lexikon | FAQ | Plasmaanlagen | Mietmaschinen | Lohnbehandlung | Beratung/Service | Links/Vertretungen | Referenzen | Download | Messen | Kontakt | Anfahrt | Jobs & Chancen | Wir über uns | Infocenter/Presse | Impressum
  © 2009 Diener electronic GmbH + Co. KG    Webdesign Heindl Internet AG