VÝRAZY POUŽÍVANÉ V PLAZMOVÉ FYZICE :: PACVD

	SLOVNÍK VÝRAZŮ
	[ VÝRAZY POUZÍVANÉ V PLAZMOVÉ FYZICE ]

	PACVD Zkratka pro Plasma Assisted Chemical Vapour Deposition ( depozice v plynné fázi za přítomnosti plazmy ).Metoda povlakování, např. nanásení karbidů a nitridů, zahrnující podstatně nizsí teploty (450-500°C) nez analogický CVD proces bez plazmy (1000°C).

	home \| Plazmová technika \| Slovník výrazů \| FAQ \| Plazmové systémy \| Systémy k pronájmu \| Placené sluzby \| Poradenství / Servis \| Odkazy / zastoupení \| Reference \| Ke stazení \| Veletrhy \| Kontaktujte nás \| Kde nás najdete \| O nás \| Komentář

	© 2009 Diener electronic GmbH + Co. KG Webdesign Heindl Internet AG

SLOVNÍK VÝRAZŮ